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日本TAITEC漩渦混合器，鉅惠促銷
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TAITEC全線產(chǎn)品面向國(guó)內(nèi)誠(chéng)招代理
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更詳細(xì)的產(chǎn)品分類

產(chǎn)品圖片	產(chǎn)品名稱/型號(hào)	產(chǎn)品簡(jiǎn)單介紹
	大口徑立式爐 VFS-4000	大口徑立式爐 Available for vacuum/atmospheric pressure process Available for various gases Substrate size: 730×930 mm (Typical) (To be discussed for other size.)
	Model 206A Model 206A	Model 206A No.1 share in domestic market Handles 100 to 200 mm square wafer Batch: 200 to 400 wafers processing is available(depends on flat zone length and wafer pitch)
	感應(yīng)加熱式高速升降溫爐 RLA-1200	感應(yīng)加熱式高速升降溫爐4 to 8 inch wafer size is available Low cost system by manual susceptor transfer Upper & lower cross lamp structure and soaking furnace improved the uniformity of in-plane temperature
	感應(yīng)加熱式高速升降溫爐 RLA-3100	感應(yīng)加熱式高速升降溫爐4 to 8 inch wafer size is available Multi axis clean robot enables high speed and accurate wafer transfer Max 50 wafers continuous processing is available
	感應(yīng)加熱式高速升降溫爐 RLA-3300	感應(yīng)加熱式高速升降溫爐Low cost performance by limited function Upper cross lamp structure and zone segmentation improved the uniformity of in-plane temperature
	批量生產(chǎn)/實(shí)驗(yàn)室用臥式爐 Model 2000	批量生產(chǎn)/實(shí)驗(yàn)室用臥式爐From experimental usage to mass production, various equipment configuration is available Batch:25 to 150 wafers processing is available 1 to 4 stacks furnace configuration
	R&D, 少量生產(chǎn)用立式爐 VF-1000	R&D, 少量生產(chǎn)用立式爐High performance processing for R&D Mini Batch, max 25 wafers batch processing 2 to 8 inch and 300mm wafer size are available
	對(duì)應(yīng)300mm Wafe的立式爐 VF-3000	對(duì)應(yīng)300mm Wafe的立式爐Low-cost equipment for back end users,Mini batch, 50 to 75 wafers processing is available for R&D to mass production line 4 to 8 inch wafer size is available Max 4 cassette stocks
	通用量產(chǎn)型立式爐 VF-5100	通用量產(chǎn)型立式爐Flexible equipment configuration available for various production line50 to 150 wafers batch size can be selected 4 to 8 inch wafer size is available 4 to 8 cassette stocks
	對(duì)應(yīng)8inch Wafe的立式爐 VF-5300	對(duì)應(yīng)8inch Wafe的立式爐Large batch, Max 150 wafers batch processing Max 20 cassette stocksExcellent temperature control from low to medium high temperature range by use of LGO heaterHigh-speed wafer
	對(duì)應(yīng)300mm Wafer的小型立式爐 VF-5700	對(duì)應(yīng)300mm Wafer的小型立式爐Mini Batch, flexible 25 to 50 wafers batch processingMax 12 FOUP stocksHigh throughput by high-power heater with fast heat upHigh-speed wafer transfer by use of single/five wafers
	對(duì)應(yīng)300mm Wafer的小型立式爐 VF-5900	對(duì)應(yīng)300mm Wafer的小型立式爐Large batch, Max 100 wafers batch processing Max 16 FOUP stocksExcellent temperature control from low to medium high temperature range by use of LGO heater

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